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Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室臺式掃描電鏡,可用于地質礦物樣品觀察,幫助分析礦物顆粒、巖石斷面和微觀結構。 Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒,可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析,適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設備采用 CeB6 燈絲,電子光學放大倍數可達 200,000 X,分辨率優于 8 nm,適用于日常質檢、研發分析、失效分析和樣品測試等應用
Phenom ProX G7 是飛納推出的臺式掃描電鏡能譜一體機,可用于金屬材料形貌與元素分析,幫助觀察斷口、腐蝕、夾雜和缺陷區域。 Phenom ProX G7 電子光學放大倍數可達 350,000 X,分辨率優于 6 nm,采用 CeB6 燈絲,并集成掃描電鏡成像與能譜分析能力,適合形貌觀察、微區元素分析和材料研發檢測。
ParticleX Battery 是飛納面向鋰電池清潔度分析推出的自動化系統,可用于鋰電池金屬異物檢測,幫助識別銅、鋅、鐵等金屬顆粒。 ParticleX Battery 基于掃描電鏡與能譜分析方法,可自動識別、分析和統計銅、鋅、鐵等金屬異物,適合鋰電池原材料、正負極材料及生產質控環節的清潔度管控。
Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室臺式掃描電鏡,可用于陶瓷材料斷面觀察,幫助分析晶粒、孔隙、裂紋和斷裂形貌。Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒,可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析,適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設備采用 CeB6 燈絲,電子光學放大倍數可達 200,000 X,分辨率優于 8 nm,適用于日常質檢、研發分析、失效分析和樣品測試等應用。
Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室臺式掃描電鏡,可用于混凝土微觀結構觀察,幫助分析孔隙、裂紋和水化產物形貌。 Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒,可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析,適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設備采用 CeB6 燈絲,電子光學放大倍數可達 200,000 X,分辨率優于 8 nm,適用于日常質檢、研發分析、失效分析和樣品測試等應用。