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Phenom Particle Metric顆粒測試以較快、較簡便的方式實現顆粒的可視化分析，是微觀顆粒分析技術的一大進步。快速、易用和超清晰圖像質量的Phenom飛納掃描電鏡，加上Particle Metric顆粒系統的顆粒圖像分析功能，為用戶提供了分析顆粒和粉末試樣的*工具。

荷蘭飛納公司推出第二代肖特基場發射電子源臺式掃描電鏡 Phenom Pharos G2, 集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析功能于一體。高亮度肖特基場發射電子源，使用戶可以輕松獲得高分辨率圖像，且低電壓性能優異。飛納臺式場發射掃描電鏡 Phenom Pharos G2 低電壓成像優勢明顯，可減輕電子束對樣品的損傷和穿透，更好地觀測絕緣和電子束敏感的樣品，可以還原樣品真實形貌。

第七代飛納臺式掃描電鏡高分辨率專業版Phenom Pro 是一款功能*，輕松易用的多功能設備。長壽命、高亮度 CeB6 燈絲擴展了研究設備的功能，結合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動軟件，Phenom Pro 可以適用于廣泛的研究領域。

全新的易于學習的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應用的理想選擇。Phenom XL G2 臺式掃描電鏡大樣品室版升級為全面屏成像，平均成像時間僅為 40 秒，比市場上其他臺式電鏡的速度快 5 倍之多。系統可對 100 x 100mm 的樣品進行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細節。