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巖石礦物顆粒分析用飛納掃描電鏡

巖石礦物顆粒分析用飛納掃描電鏡

簡要描述:Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室臺式掃描電鏡,可用于巖石礦物顆粒分析,幫助觀察礦物顆粒形貌、結(jié)構(gòu)和局部缺陷。
Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒,可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析,適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設(shè)備采用 CeB6 燈絲,電子光學(xué)放大倍數(shù)可達 200,000 X,分辨率優(yōu)于 8 nm,適用于日常質(zhì)檢、研發(fā)分析、失效分析和樣品測試等應(yīng)用

產(chǎn)品型號: Phenom XL G3

所屬分類:飛納電鏡

更新時間:2026-08-05

廠商性質(zhì):其他

詳情介紹
品牌Phenom 飛納電鏡產(chǎn)地進口
產(chǎn)品新舊全新放大倍率200,000 X
分辨率優(yōu)于 8 nm加速電壓基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV
電子槍CeB6 燈絲,使用壽命優(yōu)于 3000 小時光學(xué)導(dǎo)航相機彩色
最大樣品尺寸100 x 100 mm高級模式4.8 kV - 20.5 kV 連續(xù)可調(diào)

Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室臺式掃描電鏡,可用于巖石礦物顆粒分析,幫助觀察礦物顆粒形貌、結(jié)構(gòu)和局部缺陷。

Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒,可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析,適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設(shè)備采用 CeB6 燈絲,電子光學(xué)放大倍數(shù)可達 200,000 X,分辨率優(yōu)于 8 nm,適用于日常質(zhì)檢、研發(fā)分析、失效分析和樣品測試等應(yīng)用。

該產(chǎn)品具備大倉室樣品臺、低/中/高三種真空模式、背散射探測器,并可根據(jù)需求選配二次電子探測器和能譜探測器。具體配置和價格根據(jù)型號、功能及應(yīng)用需求確定,可通過平臺詢價/留言入口獲取選型建議,并預(yù)約試樣。

 

產(chǎn)品特點:

1. 大倉室設(shè)計,可分析最大 100 x 100 mm 樣品。

2. 平均成像時間約 40 秒,適合多樣品觀察和日常檢測。

3. 電子光學(xué)放大倍數(shù)可達 200,000 X,分辨率優(yōu)于 8 nm。

4. 采用 CeB6 燈絲,使用壽命優(yōu)于 3000 小時。

5. 支持低、中、高三種真空模式,適合多類材料樣品。

6. 標配背散射探測器,可選配二次電子探測器和能譜探測器。

7. 臺式設(shè)計,適合實驗室日常部署與使用。

8. 支持選型咨詢,可預(yù)約試樣。

 

應(yīng)用領(lǐng)域:

可用于巖石礦物顆粒分析、地質(zhì)材料觀察、礦物樣品檢測、科研實驗室和第三方檢測。

 

技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品型號:Phenom XL G3

產(chǎn)品全稱:XL 大倉室自動化電鏡

產(chǎn)品類型:大倉室臺式掃描電鏡

光學(xué)放大:3 - 19 X

電子光學(xué)放大:200,000 X

分辨率:優(yōu)于 8 nm

電子槍:CeB6 燈絲,使用壽命優(yōu)于 3000 小時

光學(xué)導(dǎo)航相機:彩色

平均成像時間:約 40 秒

最大樣品尺寸:100 x 100 mm

樣品承載:可同時容納 36 個樣品

加速電壓:基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV

高級模式:4.8 kV - 20.5 kV 連續(xù)可調(diào)

真空模式:低 / 中 / 高三種模式

探測器:背散射探測器

可選探測器:二次電子探測器、能譜探測器

 

常見問題:

1. 這款設(shè)備適合哪些樣品?適合較大尺寸樣品、多樣品檢測以及常規(guī)材料形貌觀察。

2. 是否可以做元素分析?設(shè)備可根據(jù)需求選配能譜探測器,用于顆粒、異物或局部區(qū)域的元素分析。

3. 價格是多少?價格根據(jù)設(shè)備配置、探測器選項、應(yīng)用需求和服務(wù)方案確定,可通過平臺詢價入口獲取選型建議,并預(yù)約試樣。

 

如需了解 Phenom XL G3 在巖石礦物顆粒分析中的配置方案、應(yīng)用資料或報價信息,可通過平臺詢價/留言入口提交樣品類型與測試需求,獲取選型建議,并預(yù)約試樣。




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